2022年4月27日　UBIリサーチ

韓国のJusungで考える未来のディスプレイはALD（Atomic layer deposition）を使用してdesignableし、wearable、washableの特性を持つ製品である。 

ALDプロセスはナノ単位の薄い厚さの薄膜形成が可能で、ディスプレイの物理的特性と電気的特性を向上させることができる。ALDを使用すると様々な温度で成膜が可能であり、成膜温度の制限がほとんどなく、表面反応のみを使用するため粒子がとても自由であるという特徴がある。これにより、粒子の物理的特性と電気的特性、光学的特性が優れ、designableおよびwashableが可能となる。 

ALDシステムは段階的な成膜範囲制御が可能なので、選択的な成膜が可能である。

ALDを単一層プロセスに適用することは価格面で不利だが、ディスプレイの設計と回路、構造に応じてALDを幅広い範囲のプロセスに適用するとCVDよりはるかに安価になる。ほとんどの半導体企業の主なプロセスにはALDが使用されているので、半導体と同様に今後のディスプレイ会社も早い時期に主要プロセスにALDが適用されることが期待される。