2023.07.28 Chinnoリサーチ

最近、成都高新区にある辰显光电有限公司（Chenxian Optoelectronics、以下、辰显光电）が国内初のP0.5 TFTフチなし29インチMicro-LEDのスプライシング（以下、拼接、意味は突き合わせる）スクリーンを成功裏に点灯させました。この拼接スクリーンは25マイクロメートルのLEDチップを使用し、4つの14.5インチのMicro-LEDキャビネットをつなぎ合わせて構成されており、ピクセル間隔は500マイクロメートルで、業界をリードする立場にある。

この拼接スクリーンには、国内初のMicro-LED専用のドライバーICが採用され、10ビットの色深度と240 Hzの高リフレッシュレートを実現し、独自のDe-Mura技術と組み合わせて、表示効果が著しく向上しました。同時に、辰显光电は独自に開発したハイブリッドドライブ回路アーキテクチャを採用し、600 nitの輝度（HDR機能対応で最大1000 nitまで）を実現しました。

さらに、この拼接スクリーンは以下の重要な技術的課題を達成しました：

1，国内初のP0.5 TFTベースMicro-LEDの大型拼接スクリーンで、真の意味での無限拼接を実現

Micro-LED表示技術の発展において、無限拼接は常に重要な目標とされてきました。辰显光电が現在実現しているこの技術突破により、TFT基盤Micro-LEDスクリーンは大型拼接領域でより高い解像度と優れた表示効果を持つようになりました。ユーザーは自分のニーズに応じて、Micro-LEDスクリーンを自由に組み合わせて、任意のサイズの表示画面を形成することができ、高度なアプリケーションに対してより柔軟かつ多様な解決策を提供します。

2，パッケージの反射率が5％以下に低減

辰显光电はIJP（Inkjet Printing）パッケージの反射率を成功裏に5％以下に低減しました。IJP技術はMicro-LED封装の重要なステップの1つであり、その高い反射率はMicro-LEDの表示品質における課題の1つでした。技術チームの粘り強い努力により、辰显光电はこの課題を克服し、Micro-LED表示画面が高輝度状態でも優れた表示効果を維持することを確保し、ユーザーによりクリアでリアルな視覚体験をもたらしています。

特筆すべきは、辰显光電が自社開発した高速巨量転送技術を導入し、25マイクロメートルのLEDチップの転送成功率を99.995%まで向上させたことです。また、LED後処理技術も採用し、表示色の一貫性と鮮やかさを確保しています。

中国のMicro-LEDディスプレイ技術の発展を推進するために、今年7月、辰显光电は成都高新技術産業開発区管理委員会と正式にMicro-LEDディスプレイ生産基地プロジェクトの投資協力協定に署名しました。これは、世界で初めてのTFT基盤Micro-LEDディスプレイ生産ラインが四川成都で正式に開始されることを意味しています。予測によると、辰显光电のTFTベースのMicro-LED製品は2024年に正式な出荷段階に入ることになります。

この画期的な進展は、ユーザーに新しい驚きをもたらし、同時にディスプレイ産業全体の発展に積極的な推進効果をもたらします。辰显光电のMicro-LED技術領域における持続的なイノベーションと発展は、中国のディスプレイ技術が国際舞台に進出するのを力強く支援しています。