2018年 9月 4日　UBIリサーチ

高解像度AMOLED製造用面蒸発源の蒸着技術を開発しているOLEDONのファン・チャンフン代表は、IMID 2018で2250ppiのAMOLED画素を蒸着できる、曲面蒸発源FMMの蒸着技術を世界で初めて開発したことを発表した。

従来のリニア蒸発源FMM蒸着技術は、Shadow Distanceが3 um、生産可能なAMOLEDの解像度は570ppi程度である。一方、OLEDONが既に披露した面蒸発源蒸着技術はShadow Distanceが0.8~1.5 umで、AMOLEDの解像度を800~1200ppiまで実現できる。今回、新たに開発された曲面蒸発源FMM蒸着技術によるShadow Distanceは0.18~0.6 umで、面蒸発源蒸着技術をアップグレードした技術として、AMOLEDの最大解像度を2250ppiまで実現できる。

<OLEDONの曲面蒸発源FMM蒸着技術のデータ>

凹面鏡を通して光を集める原理と同様に、従来の平らな面蒸発源を曲面に変えることによって、発光材料が広がらず目標位置に正確に蒸着され、Shadow Distanceが縮まる方式である。この技術が実用化されると、モバイル機器のみならず、仮想現実機器などにも幅広く採用できると期待されている。