2024-06-21 UBIリサーチ
次世代のディスプレイ技術として注目されるMicro-LEDディスプレイは、マイクロメートルサイズのLEDを利用している。この自発光素子は、高解像度、高輝度、高効率、長寿命などの利点を持つ。主に小型のAR/VR機器や大型テレビ分野で試験的に応用されているが、車載用、透明ディスプレイ、マイクロディスプレイなど、さまざまな分野に用途が拡大している。
韓国、中国、台湾、米国がMicro-LED技術の開発をリードしている。そのうち中国は国家的な支援を受けていることから、数多くの中国企業がこの技術を開発している。一方で台湾はMicro-LEDを使った商業用ディスプレイの分野で新たな市場の創出を目指している。
UBIリサーチが発刊した「Micro-LED最新技術開発動向レポート」は、Micro-LEDの技術を詳細に分析し、アプリケーション別の技術の現況と企業の現況、そしてMicro-LEDアプリケーション製品とMicro-LEDチップ市場展望まで網羅的に一冊の報告書にまとめたレポートである。本レポート内容は、Micro-LED分野に従事する皆様の事業拡大、参入戦略を立案する際の有益な情報である。
【主な内容】
- Micro-LEDディスプレイのコア技術と長所·短所、Micro-LED Chip製造工程の問題点
- 大型·透明·AR用·車載用·Watch各アプリケーション別Micro-LED技術開発の現況
- Micro-LED開発企業の現況(中国、台湾、韓国、米国およびヨーロッパ)
- Micro-LED設備及び製造工程企業の現況(Epi用MOCVD、Epi Wafer、Mass-Transfer、Inspection及びTesting)
- Micro-LEDアプリケーション製品とチップ市場の展望
「Micro-LED最新技術開発動向レポート」の販売は分析工房が行います。レポートはPDFかPPTの日本語版で125ページです。日本語版レポートの消費税別の価格は、
1) PDF-1(編集・印刷不可)版:440,000円
2) PDF-2(編集・印刷可能)版:560,000円
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目次
1. Micro-LED技術分析
1.1 Micro-LED ディスプレイ技術の利点分析
1.2 Micro-LED ディスプレイ基本 コア技術
1.3 Micro-LED チップArchitectureと特長
1.4 GaNベースのMicro-LEDチップ製造プロセス
1.5 エピタキシーとチップ製造プロセスの問題
1.6 Micro-LED チップ特性の問題
1.7 Micro-LED チップshrink and Wafer size
1.8 Micro-LEDチップ出荷Configuration
1.9 Micro-LEDアレイ高解像度技術
1.10 Micro-LED Mass-Transferおよびボンディング技術
1.11 Micro-LED DisplayのColor化技術
1.12 Micro-LED DisplayのColor化技術
1.13 Micro-LED Display製品化プロセス
2. 応用分野別Micro-LED技術開発の現状
2.1 Micro-LEDディスプレイ アプリケーショントレンド
2.2 大型Micro-LEDディスプレイ技術 開発状況
2.3 透明Micro-LEDディスプレイ技術開発の現状
2.4 AR用Micro-LED技術の開発状況
2.5 車載用Micro-LED技術 開発状況
2.6 ウォッチ用Micro-LED技術 開発 現状
3. Micro-LED開発者の 技術開発の現状
3.1 中国企業のMicro-LED技術開発の現状
3.2 台湾企業のMicro-LED技術開発の現状
3.3 米国・欧州企業のMicro-LED技術開発の現状
3.4 韓国 企業のMicro-LED技術開発の現状
4. 設備とプロセス 会社の現状
4.1 Epi用MOCVD設備メーカー
4.2 Epi Waferサプライヤー
4.3 Mass-Transfer設備・技術企業
4.4 検査およびテスト技術企業
5. Micro-LED ディスプレイ市場展望
5.1 Micro-LEDアプリケーション製品市場の見通し
5.2 Micro-LEDチップ市場展望