分析工房の技術背景：　籔本周邦社長の代表著作（邦文のみ掲載）

 分析工房（株）の技術背景は、下記の社長著作をご参照下さい。

 

＜書籍＞

イオン工学研究所編：イオン工学ハンドブック : ナノテクノロジーへの道を拓く : 薄膜合成・加工・イオン注入・表面改質・デバイス応用・マイクロマシン等「8.3.5 熱脱離」  出版社: 日刊工業新聞社／2004.10 　 ISBN-10: 4526053805　 ISBN-13: 978-4526053801

 

新版シリコンウェーハ表面のクリーン化技術「4.6 ウェーハ表面の吸着分子の分析」

 出版社: リアライズ理工センター; 新版 (2000/5/28) 　 ISBN-10: 4898080235　 ISBN-13: 978-4898080238

 

半導体プロセス環境における化学汚染とその対策「4.5 APIMS」、「4.6 昇温脱離分析」

 出版社: リアライズ理工センター (1997/10/28) 　 ISBN-10: 4898080014　 ISBN-13: 978-4898080016

 

超高純度ガスの科学「3.1 ガスのクリーン度のシリコン表面に及ぼす影響」

出版社: リアライズ理工センター (1993/12/28) 　 ISBN-10: 494765564X　 ISBN-13: 978-4947655646

 

超純水の科学「8.6 シリコンウェーハ上への水の吸着」

出版社: リアライズ理工センター (1990/9/11) 　 ISBN-10: 4898080944　 ISBN-13: 978-4898080948

 

＜雑誌記事＞

分析屋としてのクリーンルームへの関わり

掲載誌 空気清浄 : コンタミネーションコントロール 53(3) (通号 337) 2015 p.212-214   

 

半導体材料におけるTXRFの標準化と測定に当たっての注意点 

掲載誌 ぶんせき 2012 2 p.105～106

 

シリコンウェーハの洗浄表面評価と洗浄槽の液分析 (特集 産業洗浄における評価)

掲載誌 産業洗浄 : 産業洗浄技術情報誌 (8) 2011-08 p.12～17

 

半導体クリーンルームにおける分析技術(第6回)ガスの分析

掲載誌 空気清浄 : コンタミネーションコントロール 49(1) (通号 311) 2011 p.40～45

 

持続可能な社会における照明システム (特集 省エネルギー照明技術の最新動向)

掲載誌 エネルギー・資源 32(3) (通号 187) 2011-05 p.140～144  

 

半導体のクリーン化要求と分析技術の概要 (半導体クリーンルームにおける分析技術(第1回))

掲載誌 空気清浄 : コンタミネーションコントロール 48(2) (通号 306) 2010 p.54～57

 

湿式化学分析と組み合わせた蛍光X線による半導体材料の分析

掲載誌 X線分析の進歩 / 日本分析化学会X線分析研究懇談会 編  (通号 36) 2005-03 p.145～153

 

NTT-AT事業活動情報 AT-ソリューション 人・装置・環境の三位一体で展開する微量分析サービス

掲載誌 Techno-stream 25(3月) 2002-03 p.14～17

 

 黒鉛炉原子吸光法によるシリコンウェハー上金属薄膜中のナトリウムの高感度定量

 掲載誌 分析化学 49(8) 2000-08 p.605～609

 

エアロゾルとクリーン化技術　　Ｓｉウエハ表面における有機ガスの吸着機構

掲載誌 エアロゾル研究 13(2) 1998 p.142-148

 

クリーンルーム中化学汚染の簡便捕集法とその分析　

掲載誌 クリーンテクノロジー 1997.11 p.43～46

 

LSIプロセスクリーン化のための極微量分析技術 (〔特集〕ナノエレクトロニクス材料の高度分析技術)

掲載誌 NTT R & D / NTT先端技術総合研究所 企画編集 45(3) 1996-03 p.285～290

 

くらべてみよう-12-日本の温泉

掲載誌 表面技術 / 表面技術協会 [編] 47(3) 1996-03 p.227～228

 

SIMOX基板の重金属汚染分析方法の検討

掲載誌 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 95(570) 1996-03-11 p.91-98

 

表面吸着水の分析 (いろいろな分野から捉えられた摩擦<特集>)

掲載誌 トライボロジスト / 日本トライボロジー学会 編 40(6) 1995-06 p.p476～481

 

 くらべてみよう-8-水とフッ酸

 掲載誌 表面技術 / 表面技術協会 [編] 46(11) 1995-11 p.p1028～1029 

 

LSI製造プロセス雰囲気中不純物の微量分析〔英文〕 (電子材料技術の新展開<特集>)

掲載誌 電気化学および工業物理化学 / 電気化学会 [編] 63(6) 1995-06 p.p494～498

 

表面状態の解析-35-昇温脱離分析のシリコン表面評価への応用

掲載誌 表面技術 / 表面技術協会 [編] 46(3) 1995-03 p.p249～252

 

小特集“LSI製造における表面制御技術”によせて

掲載誌 表面技術 45(1) 1994 p.43-43

 

カーボン汚染フリー表面クリーニング及びウェハ搬送技術

掲載誌 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 94(193) 1994-08-17 p.15-22

 

特集　超ＬＳＩの良品率の秘密を探る　超ＬＳＩ製造用ガスクリーン化技術

掲載誌 精密工学会誌 58(2) 1992 p.207-210

 

水素終端シリコン表面の酸化機構

掲載誌 表面科学 12(7) 1991 p.418-423